Π§ΠΈΡ‚Π°ΠΉΡ‚Π΅ ΠΊΠ½ΠΈΠ³ΠΈ ΠΎΠ½Π»Π°ΠΉΠ½ Π½Π° Bookidrom.ru! БСсплатныС ΠΊΠ½ΠΈΠ³ΠΈ Π² ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΌ ΠΊΠ»ΠΈΠΊΠ΅

Π§ΠΈΡ‚Π°Ρ‚ΡŒ ΠΎΠ½Π»Π°ΠΉΠ½ «НанотСхнологии. Наука, ΠΈΠ½Π½ΠΎΠ²Π°Ρ†ΠΈΠΈ ΠΈ возмоТности». Π‘Ρ‚Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Π° 56

Автор Π›ΠΈΠ½Π½ ЀостСр

Рис. 13.3. Π Π΅ΡˆΠ΅Ρ‚ΠΊΠ° ΠΈΠ· однослойных ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ, выращСнная ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ химичСского осаТдСния ΠΈΠ· Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠΉ Ρ„Π°Π·Ρ‹ с использованиСм ΠΏΠ»Π°Π·ΠΌΡ‹

БообщаСтся, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ PEVCD позволяСт Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΏΠΎΠ½ΠΈΠ·ΠΈΡ‚ΡŒ Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‡ΡƒΡŽ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρƒ процСсса выращивания Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π·Π° счСт Ρ‚ΠΎΠ³ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ²Π½Ρ‹Π΅ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΡ‹ ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π° Π²ΠΎΠ·Π½ΠΈΠΊΠ°ΡŽΡ‚ Π² ΠΏΠ»Π°Π·ΠΌΠ΅Π½Π½ΠΎΠΉ струС, Π° Π½Π΅ ΠΏΠΎΠ΄ воздСйствиСм свСрхвысокой Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹ (ΠΊΠ°ΠΊ это ΠΈΠΌΠ΅Π΅Ρ‚ мСсто ΠΏΡ€ΠΈ Π²Ρ‹Ρ€Π°Ρ‰ΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠΈ химичСским осаТдСниСм ΠΈΠ· Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠΉ Ρ„Π°Π·Ρ‹). НаиболСС интСрСсным прСдставляСтся ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅Π½ΠΈΠ΅ однослойных Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π² элСктроникС, Π½ΠΎ ΠΈΠΌΠ΅Π½Π½ΠΎ Ρ‚Π°ΠΌ ΠΊ ΠΈΡ… чистотС ΠΏΡ€Π΅Π΄ΡŠΡΠ²Π»ΡΡŽΡ‚ΡΡ самыС строгиС трСбования. Π’ настоящСС врСмя высокочистыС SWTN коммСрчСски производят лишь нСмногочислСнныС ΠΊΠΎΠΌΠΏΠ°Π½ΠΈΠΈ, поэтому ΡΡ‚ΠΎΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΏΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΊΠΎΠ² остаСтся слишком высокой для ΡˆΠΈΡ€ΠΎΠΊΠΎΠ³ΠΎ примСнСния.

ΠŸΠΎΠ½ΡΡ‚Π½ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈ любом коммСрчСском использовании Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π² элСктроникС основной тСхничСской ΠΏΡ€ΠΎΠ±Π»Π΅ΠΌΠΎΠΉ станСт созданиС схСм ΠΈΠ· Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π½Π° повСрхности пластинок Ρ€Π°Π·Π½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ‚ΠΈΠΏΠ° (ΠΈΠ· крСмния, ΠΈΠ· крСмния Π½Π° изоляторС ΠΈ Ρ‚. ΠΏ.). ΠŸΡ€ΠΈ этом Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠΈ Π΄ΠΎΠ»ΠΆΠ½Ρ‹ ΡƒΠΊΠ»Π°Π΄Ρ‹Π²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ с ΡƒΡ‡Π΅Ρ‚ΠΎΠΌ спСцифичСской ΠΎΡ€ΠΈΠ΅Π½Ρ‚Π°Ρ†ΠΈΠΈ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ прСдставляСт собой ΡΠ»ΠΎΠΆΠ½ΡƒΡŽ ΠΏΡ€ΠΎΠ±Π»Π΅ΠΌΡƒ. Π’ настоящСС врСмя ΡΡƒΡ‰Π΅ΡΡ‚Π²ΡƒΡŽΡ‚ Π΄Π²Π° основных ΠΏΠΎΠ΄Ρ…ΠΎΠ΄Π° ΠΊ Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Π½ΠΈΡŽ этой Π·Π°Π΄Π°Ρ‡ΠΈ. ΠŸΡ€Π΅ΠΆΠ΄Π΅ всСго, Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠΈ ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ Π²Ρ‹Ρ€Π°Ρ‰ΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ Π½Π° ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ΅ с ΠΏΡ€Π΅Π΄Π²Π°Ρ€ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ распрСдСлСнными спСцифичСскими ΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€Π°ΠΌΠΈ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ позволяСт ΡΠΎΠ·Π΄Π°Π²Π°Ρ‚ΡŒ структуры Ρ‚ΠΈΠΏΠ° ΠΏΠΎΠΊΠ°Π·Π°Π½Π½ΠΎΠΉ Π½Π° рис. 13.4, Π²Π½ΡƒΡ‚Ρ€ΠΈ ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Ρ… ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ обСспСчСн рост Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π² Π²Π΅Ρ€Ρ‚ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΌ ΠΈΠ»ΠΈ Π³ΠΎΡ€ΠΈΠ·ΠΎΠ½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΌ Π½Π°ΠΏΡ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ (Π² зависимости ΠΎΡ‚ нанСсСнных Π½Π° участок спСцифичСских ΠΊΠ°Ρ‚Π°Π»ΠΈΠ·Π°Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ² роста). Π’ Π΄Ρ€ΡƒΠ³ΠΈΡ… случаях трСбуСмая схСма ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒΡΡ ΠΈΠ· Π½Π΅ΠΎΡ€ΠΈΠ΅Π½Ρ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π·Π° счСт использования особСнностСй растворов ΠΈ Ρ‚. Π΄.

Рис. 13.4. Π’Ρ‹Ρ€Π°Ρ‰ΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Ρ‚ΠΊΠΈ многослойных ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ химичСского осаТдСния ΠΈΠ· Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠΉ Ρ„Π°Π·Ρ‹

Π’Ρ‹Ρ€Π°Ρ‰ΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π² Π²Π΅Ρ€Ρ‚ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠΌ Π½Π°ΠΏΡ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ, ΡƒΠΆΠ΅ осущСствлСнноС рядом исслСдоватСлСй, ΠΈΠΌΠ΅Π΅Ρ‚ ΠΎΡΠΎΠ±ΡƒΡŽ Ρ†Π΅Π½Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ для создания элСктронных устройств с Ρ‚Π°ΠΊ Π½Π°Π·Ρ‹Π²Π°Π΅ΠΌΠΎΠΉ автоэлСктронной эмиссиСй. ΠšΠ»Π°ΡΡΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΠΈΠ΅ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊΠΈ осаТдСния ΠΈΠ· Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠΉ Ρ„Π°Π·Ρ‹ Π΄Π°ΡŽΡ‚ Ρ…ΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΈΠ΅ Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Ρ‹ Π² Π»Π°Π±ΠΎΡ€Π°Ρ‚ΠΎΡ€Π½Ρ‹Ρ… условиях, Π½ΠΎ ΠΈΡ… Ρ‚Ρ€ΡƒΠ΄Π½ΠΎ Ρ€Π΅Π°Π»ΠΈΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Π² ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°ΡΡˆΡ‚Π°Π±Π°Ρ…, ΠΏΡ€Π΅ΠΆΠ΄Π΅ всСго, ΠΈΠ·-Π·Π° нСобходимости ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ высокиС Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρ‹ (Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ 800 Β°C для выращивания SWTN). Π­Ρ‚ΠΎ ΠΎΠ³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ являСтся вСсьма ΡΠ΅Ρ€ΡŒΠ΅Π·Π½Ρ‹ΠΌ, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΊΠ°ΠΊ высокотСмпСратурная ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ° ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ ΡΡ‚Π°Ρ‚ΡŒ ΠΏΡ€ΠΈΡ‡ΠΈΠ½ΠΎΠΉ возникновСния Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ΠΎΠ² Π² ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π΅ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ, нанСсти Π²Ρ€Π΅Π΄ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒΠ½ΠΎΠΉ Π°ΠΏΠΏΠ°Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ ΠΈ Ρ‚. Π΄. ΠŸΠΎΡΡ‚ΠΎΠΌΡƒ сСйчас вСдутся интСнсивныС поиски возмоТностСй примСнСния упомянутого Π²Ρ‹ΡˆΠ΅ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π° PEVCD для выращивания однослойных ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ. МногиС ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊΠΈ Π²Π΅Ρ€Ρ‚ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ выращивания наноструктур находятся Π² стадии Ρ€Π°Π·Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠΈ, Π½ΠΎ ΠΈΠ½ΠΆΠ΅Π½Π΅Ρ€Ρ‹ ΠΈ Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ Π²ΠΎΠ·Π»Π°Π³Π°ΡŽΡ‚ Π½Π° Π½ΠΈΡ… большиС Π½Π°Π΄Π΅ΠΆΠ΄Ρ‹.

БущСствуСт Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ ΠΏΠΎΠ΄Ρ…ΠΎΠ΄, ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΌ наноструктуры Π½Π΅ Π²Ρ‹Ρ€Π°Ρ‰ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‚ΡΡ, Π° Ρ„ΠΎΡ€ΠΌΠΈΡ€ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ Π½Π° ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠ΅ Π³ΠΎΡ€ΠΈΠ·ΠΎΠ½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎ, Ρ‚ΠΎ Π΅ΡΡ‚ΡŒ осаТдСниСм слоСв Π·Π°Π΄Π°Π½Π½ΠΎΠΉ Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Ρ‹ Π·Π° счСт рСгулирования ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ растворов ΠΈ условий осаТдСния. Π’ Ρ€Π°Π·Π²ΠΈΡ‚ΠΈΠΈ Ρ‚Π°ΠΊΠΈΡ… ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊ Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ приходится Ρ€Π΅ΡˆΠ°Ρ‚ΡŒ Ρ‚Ρ€ΡƒΠ΄Π½Ρ‹Π΅ Π·Π°Π΄Π°Ρ‡ΠΈ, связанныС с очисткой растворов Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ, ΠΎΠ΄Π½ΠΎΡ€ΠΎΠ΄Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ распрСдСлСния структур ΠΏΠΎ большой повСрхности ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΊΠΈ, Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΡΠΎΠ·Π΄Π°Π²Π°Ρ‚ΡŒ слоТныС ΠΏΠ°Ρ‚Ρ‚Π΅Ρ€Π½Ρ‹ ΠΈΠ· проводящих Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ ΠΈ Ρ‚. Π΄. ΠŸΡ€ΠΎΠΈΠ·Π²ΠΎΠ΄ΡΡ‚Π²Π΅Π½Π½Ρ‹Π΅ процСссы ΠΏΡ€ΠΈ Ρ‚Π°ΠΊΠΈΡ… ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊΠ°Ρ… ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΎΠΊΠ°Π·Π°Ρ‚ΡŒΡΡ излишнС Π΄ΠΎΠ»Π³ΠΈΠΌΠΈ ΠΈ Ρ‚Ρ€ΡƒΠ΄Π½Ρ‹ΠΌΠΈ.

ΠœΠ½ΠΎΠ³ΠΎΡΠ»ΠΎΠΉΠ½Ρ‹Π΅ Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠΈ SWTN ΡƒΠΆΠ΅ Π²Ρ‹ΠΏΡƒΡΠΊΠ°ΡŽΡ‚ΡΡ коммСрчСски ΠΌΠ½ΠΎΠ³ΠΈΠΌΠΈ поставщиками, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ производят ΠΈΡ… ΠΌΠΎΠ΄ΠΈΡ„ΠΈΡ†ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΈΠΊΠ°ΠΌΠΈ осаТдСния ΠΈΠ· Π³Π°Π·ΠΎΠ²ΠΎΠΉ Ρ„Π°Π·Ρ‹. Для использования Π² элСктроникС Ρ‚Π°ΠΊΠΈΠ΅ Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠΈ Π΄ΠΎΠ»ΠΆΠ½Ρ‹ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ ΠΎΡ‡ΠΈΡ‰Π΅Π½Ρ‹ ΠΎΡ‚ примСсСй ΠΌΠ΅Ρ‚Π°Π»Π»ΠΎΠ² (Π½Π°ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€, элСмСнтов Π³Ρ€ΡƒΠΏΠΏ IA ΠΈ IIA пСриодичСской Ρ‚Π°Π±Π»ΠΈΡ†Ρ‹, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅ΠΌΡ‹Ρ… Π² процСссС синтСза) ΠΈ Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… углСродистых соСдинСний. Π—Π°Ρ‚Π΅ΠΌ Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠΈ ΠΏΠΎΠ΄Π²Π΅Ρ€Π³Π°ΡŽΡ‚ΡΡ ΡΠΎΠ»ΡŽΠ±ΠΈΠ»ΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΠΈ ΠΈ наносятся Π½Π° ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠ΅ΠΊ для дальнСйшСй ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠΈ.

13.3.3. ВозмоТности примСнСния

БущСствуСт ΠΎΠ³Ρ€ΠΎΠΌΠ½ΠΎΠ΅ количСство ΠΏΡ€Π΅Π΄Π»ΠΎΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ ΠΏΠΎ практичСскому использованию ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ для самых Ρ€Π°Π·Π½Ρ‹Ρ… Ρ†Π΅Π»Π΅ΠΉ, Π² связи с Ρ‡Π΅ΠΌ интСрСсно ΠΎΡ‚ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΡ‚ΡŒ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ самыС ΠΏΠ΅Ρ€Π²Ρ‹Π΅ прСдлоТСния ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ использования многослойных Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ ΠΎΡ‚Π½ΠΎΡΠΈΠ»ΠΈΡΡŒ ΠΊ созданию ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ·ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² для Π±Π°Ρ‚Π°Ρ€Π΅ΠΉ ΠΈ ΠΈΠ·Π»ΡƒΡ‡Π°Ρ‚Π΅Π»Π΅ΠΉ для ΠΏΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π° ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π½ΠΈΡ Ρ‚Π΅Π»Π΅Π²ΠΈΠ·ΠΎΡ€ΠΎΠ² [74] . Π’ настоящСС врСмя, ΠΏΠΎ ΠΌΠ΅Ρ€Π΅ сниТСния стоимости производства исходных ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ², число ΠΏΡ€Π΅Π΄Π»Π°Π³Π°Π΅ΠΌΡ‹Ρ… ΠΏΡ€ΠΎΠ΅ΠΊΡ‚ΠΎΠ² постоянно возрастаСт, хотя основноС Π²Π½ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠ΅ Π°Π²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΎΠ² всС Π΅Ρ‰Π΅ ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π»Π΅ΠΊΠ°Π΅Ρ‚ созданиС ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ·ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ².

ΠžΡ‡Π΅Π²ΠΈΠ΄Π½ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ пСрСчислСнныС Π²Ρ‹ΡˆΠ΅ элСктромагнитныС, мСханичСскиС, химичСскиС ΠΈ оптичСскиС особСнности ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ ΠΈΠ»ΠΈ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² Π½Π° ΠΈΡ… основС (Ρ‚Π°ΠΊ Π½Π°Π·Ρ‹Π²Π°Π΅ΠΌΡ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚ΠΊΠ°Π½Π΅ΠΉ) ΠΏΠΎΠ·Π²ΠΎΠ»ΡΡŽΡ‚ ΡΡ‡ΠΈΡ‚Π°Ρ‚ΡŒ ΠΈΡ… ΠΏΠΎΡ‚Π΅Π½Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΈΡΠΊΠ»ΡŽΡ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ Ρ†Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠΌ для создания Π½ΠΎΠ²Ρ‹Ρ… ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π³Ρ€Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… элСктронных устройств. Число ΠΈ Ρ€Π°Π·Π½ΠΎΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΈΠ΅ сфСр примСнСния Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ возрастаСт ΠΏΠΎ ΠΌΠ΅Ρ€Π΅ накоплСния Π½ΠΎΠ²Ρ‹Ρ… Π΄Π°Π½Π½Ρ‹Ρ…. Π’ качСствС ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€Π° стоит ΠΎΡ‚ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΡ‚ΡŒ Ρ‚Π΅ΠΎΡ€Π΅Ρ‚ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ создания Π½Π° ΠΈΡ… основС Ρ‚Π°ΠΊ Π½Π°Π·Ρ‹Π²Π°Π΅ΠΌΡ‹Ρ… энСргонСзависимых Π·Π°ΠΏΠΎΠΌΠΈΠ½Π°ΡŽΡ‰ΠΈΡ… устройств (Ρ€Π΅Ρ‡ΡŒ ΠΈΠ΄Π΅Ρ‚ ΠΎ ΠΊΠΎΠΌΠΏΡŒΡŽΡ‚Π΅Ρ€Π°Ρ… с Β«ΠΌΠ³Π½ΠΎΠ²Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌΒ» запуском). ΠšΡ€ΠΎΠΌΠ΅ Ρ‚ΠΎΠ³ΠΎ, Ρ‚Π΅ ΠΆΠ΅ характСристики ΠΏΠΎΠ·Π²ΠΎΠ»ΡΡŽΡ‚ ΠΏΡ€ΠΎΠ΅ΠΊΡ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ мноТСство Π΄Ρ€ΡƒΠ³ΠΈΡ… ΠΈΠΌΠ΅ΡŽΡ‰ΠΈΡ… ΠΏΡ€Π°ΠΊΡ‚ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ Ρ†Π΅Π½Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ устройств. Π’ настоящСС врСмя наибольший интСрСс Π²Ρ‹Π·Ρ‹Π²Π°ΡŽΡ‚ Ρ€Π°Π·Π½ΠΎΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Π½Ρ‹Π΅ Π΄Π°Ρ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠΈ (химичСскиС, биологичСскиС, Ρ€Π°Π΄ΠΈΠ°Ρ†ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹Π΅), пассивныС ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Ρ‚Π΅Π»ΠΈ с ΠΎΡ‡Π΅Π½ΡŒ Π½ΠΈΠ·ΠΊΠΈΠΌ сопротивлСниСм ΠΈ Π΅ΠΌΠΊΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ, элСктромагнитныС устройства с автоэлСктронной эмиссиСй. Π’ ΠΌΠ΅Π΄ΠΈΡ†ΠΈΠ½Π΅ ΠΈ Π±ΠΈΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ ΠΏΡ€Π΅Π΄Π»Π°Π³Π°ΡŽΡ‚ΡΡ ΠΏΡ€ΠΎΠ΅ΠΊΡ‚Ρ‹ структур для выращивания биологичСских ΠΊΠ»Π΅Ρ‚ΠΎΠΊ, создания антиоксидантов, мишСнСй для получСния ΠΈΠ·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΉ (Ρ‚ΠΊΠ°Π½Π΅ΠΉ ΠΈΠ»ΠΈ ΠΎΡ‚Π΄Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… ΠΊΠ»Π΅Ρ‚ΠΎΠΊ) Π² Π±Π»ΠΈΠΆΠ½Π΅ΠΉ инфракрасной области спСктра ΠΈ Ρ‚. ΠΏ. Бписок Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΠ³ΠΎ примСнСния ΠΎΡ‡Π΅Π½ΡŒ Π²Π΅Π»ΠΈΠΊ ΠΈ постоянно растСт, поэтому Π² Ρ‚Π°Π±Π»ΠΈΡ†Π΅ 13.1 прСдлагаСтся общая схСма систСматизации областСй примСнСния ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² (Ρ‚ΠΊΠ°Π½Π΅ΠΉ) Π½Π° основС однослойных ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ Π² основных направлСниях развития Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΉ [75] .

Π’Π°Π±Π». 13.1. ΠŸΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€Ρ‹ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΠ³ΠΎ примСнСния ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² Π½Π° основС однослойных ΡƒΠ³Π»Π΅Ρ€ΠΎΠ΄Π½Ρ‹Ρ… Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ ΠΈ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚ΠΊΠ°Π½Π΅ΠΉ

Одна ΠΈΠ· Π½Π°ΠΈΠ±ΠΎΠ»Π΅Π΅ интСрСсных ΠΈ пСрспСктивных возмоТностСй ΡˆΠΈΡ€ΠΎΠΊΠΎΠ³ΠΎ примСнСния однослойных Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ связана с созданиСм ΡƒΠΏΠΎΠΌΠΈΠ½Π°Π²ΡˆΠΈΡ…ΡΡ Π²Ρ‹ΡˆΠ΅ энСргонСзависимых Π·Π°ΠΏΠΎΠΌΠΈΠ½Π°ΡŽΡ‰ΠΈΡ… устройств, Ρ‚ΠΎ Π΅ΡΡ‚ΡŒ ΠΊΠΎΠΌΠΏΡŒΡŽΡ‚Π΅Ρ€ΠΎΠ² с Β«ΠΌΠ³Π½ΠΎΠ²Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌ запуском» [76] . Π’ этом Π½Π°ΠΏΡ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ достигнут Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ прогрСсс Π² использовании повСрхностных структур (сборок) ΠΈΠ· однослойных Ρ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ, Π΄ΠΎΠΏΠΎΠ»Π½ΡΡŽΡ‰ΠΈΡ… ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π³Ρ€Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ схСмы [77] , способных ΡΠΎΡ…Ρ€Π°Π½ΡΡ‚ΡŒ свои молСкулярныС характСристики Π±Π΅Π· внСшнСго физичСского контроля Π½Π° Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ°Ρ€Π½ΠΎΠΌ ΡƒΡ€ΠΎΠ²Π½Π΅ (Π² Π΄Π°Π½Π½ΠΎΠΌ случаС Π±Π΅Π· ΠΏΠΎΠ΄Π°Ρ‡ΠΈ напряТСния). Для ΠΎΡ€Π³Π°Π½ΠΈΠ·Π°Ρ†ΠΈΠΈ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ производства ΠΎΡ‡Π΅Π½ΡŒ Π²Π°ΠΆΠ½ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Ρ‚Π°ΠΊΠΈΠ΅ мономолСкулярныС ΠΈ Π°Ρ‚ΠΎΠΌΠ°Ρ€Π½Ρ‹Π΅ повСрхностныС структуры ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ созданы Π² Ρ€Π΅Π·ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Π°Ρ‚Π΅ достаточно простых ΠΎΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΉ. Π‘Π½Π°Ρ‡Π°Π»Π° Π½Π° ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ кристалла ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠΎΠΌΠ½Π°Ρ‚Π½ΠΎΠΉ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅ наносится слой ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ раствора, содСрТащСго SWNT ΠΈ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄Π½ΠΈΠΊΠΎΠ²Ρ‹Π΅ ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ½Π΅Π½Ρ‚Ρ‹. ПослС испарСния растворитСля Π½Π° повСрхности остаСтся мономолСкулярная ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ°, Π½Π° ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΡƒΡŽ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ литографичСски нанСсСна трСбуСмая схСма (ΠΏΠ°Ρ‚Ρ‚Π΅Ρ€Π½). На послСднСй стадии процСсса пластина подвСргаСтся ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎΠΌΡƒ Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΡŽ Π² кислородной ΠΏΠ»Π°Π·ΠΌΠ΅. ОсобСнно Π²Π°ΠΆΠ½ΠΎ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ позволяСт Π½Π°Π½ΠΎΡΠΈΡ‚ΡŒ слой Π½Π°Π½ΠΎΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π° Π½Π° повСрхности с Π½Π°ΠΊΠ»ΠΎΠ½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ участками, Ρ€Π΅Π·ΠΊΠΈΠΌΠΈ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΏΠ°Π΄Π°ΠΌΠΈ, острыми краями структур ΠΈ Ρ‚. ΠΏ. Π’ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Π²Π°Ρ‚ΡŒ слоТныС повСрхности Β«Π½Π°Π½ΠΎΡ‚ΠΊΠ°Π½ΡŒΡŽΒ», Π° Π·Π°Ρ‚Π΅ΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±Π°Ρ‚Ρ‹Π²Π°Ρ‚ΡŒ Π΅Π΅ Ρ…ΠΎΡ€ΠΎΡˆΠΎ ΠΎΡ‚Π»Π°ΠΆΠ΅Π½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ Ρ‚Ρ€Π°Π΄ΠΈΡ†ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ тСхнологичСскими опСрациями позволяСт исслСдоватСлям ΠΌΠ΅Ρ‡Ρ‚Π°Ρ‚ΡŒ ΠΎ Π·Π°ΠΌΠ΅Π½Π΅ ΡΡƒΡ‰Π΅ΡΡ‚Π²ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΡ… Β«Π³ΠΎΡ€ΠΈΠ·ΠΎΠ½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ…Β» ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π³Ρ€Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… схСм Π½Π° Ρ‚Ρ€Π΅Ρ…ΠΌΠ΅Ρ€Π½Ρ‹Π΅, ΠΈΠ»ΠΈ Β«Π²Π΅Ρ€Ρ‚ΠΈΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅Β». НС стоит ΠΈ Π³ΠΎΠ²ΠΎΡ€ΠΈΡ‚ΡŒ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Ρ…ΠΎΠ΄ ΠΊ ΠΎΠ±ΡŠΠ΅ΠΌΠ½ΠΎΠΌΡƒ Π΄ΠΈΠ·Π°ΠΉΠ½Ρƒ ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π³Ρ€Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… схСм ΠΈ устройств Π±ΡƒΠ΄Π΅Ρ‚ ΠΎΠ·Π½Π°Ρ‡Π°Ρ‚ΡŒ Ρ€Π΅Π²ΠΎΠ»ΡŽΡ†ΠΈΠΎΠ½Π½Ρ‹Π΅ измСнСния для элСктроники.

ΠšΠΎΠΌΠ±ΠΈΠ½ΠΈΡ€ΡƒΡ слоТныС ΠΏΠ°Ρ‚Ρ‚Π΅Ρ€Π½Ρ‹ (ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Π½ΠΎ говоря, Π²Ρ‹ΠΊΡ€ΠΎΠΉΠΊΠΈ ΠΈΠ· Ρ‚ΠΊΠ°Π½ΠΈ, ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΠΎΠΉ Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΊΠ°ΠΌΠΈ) со ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎ спроСктированными углублСниями Π½Π° плоскости Π²ΠΎΠΊΡ€ΡƒΠ³ Ρ‚ΠΊΠ°Π½ΠΈ, ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΡΠΎΠ·Π΄Π°Ρ‚ΡŒ ΠΎΠ±ΡŠΠ΅ΠΌΠ½Ρ‹Π΅ структуры, ΠΈΠ»ΠΈ пустоты. Π­Π»Π΅ΠΊΡ‚Ρ€ΠΎΠ½Π½ΡƒΡŽ Β«Π²Ρ‹ΠΊΡ€ΠΎΠΉΠΊΡƒΒ» схСмы Π² пространствС ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Β«ΠΏΠΎΠ΄Π²Π΅ΡΠΈΡ‚ΡŒΒ», Π·Π°ΠΊΡ€Π΅ΠΏΠΈΠ² Π΅Π΅ Π² мСстах ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚Π° с элСктродами. Π’Π°ΠΊΠΈΠ΅ устройства, Π½Π°Π·Ρ‹Π²Π°Π΅ΠΌΡ‹Π΅ молСкулярными ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Ρ‚Π΅Π»ΡΠΌΠΈ (molecular microswitcher, MMS), ΡƒΠΆΠ΅ ΡΡƒΡ‰Π΅ΡΡ‚Π²ΡƒΡŽΡ‚, ΠΈ сСйчас Ρ€Π°Π·Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Ρ‡ΠΈΠΊΠΈ ΡΡ‚Π°Ρ€Π°ΡŽΡ‚ΡΡ ΡΠΎΠ·Π΄Π°Ρ‚ΡŒ Π½Π° ΠΈΡ… основС Π·Π°ΠΏΠΎΠΌΠΈΠ½Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠ΅ ΠΈΠ»ΠΈ логичСскиС устройства.

Π˜ΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅ΠΌΡ‹Π΅ Π² описанном ΠΏΠΎΠ΄Ρ…ΠΎΠ΄Π΅ схСмы (Ρ‚ΠΎ Π΅ΡΡ‚ΡŒ ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·ΠΎΠΌ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π°Π½Π½Ρ‹Π΅ участки Π½Π°Π½ΠΎΡ‚ΠΊΠ°Π½ΠΈ ΠΈΠ· SWNT Ρ‚ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½ΠΎΠΉ 1–2 Π½ΠΌ) Π² дальнСйшСм ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ ΠΎΠ±ΡŠΠ΅Π΄ΠΈΠ½Π΅Π½Ρ‹ Π² Π΅Π΄ΠΈΠ½ΠΎΠ΅ Ρ†Π΅Π»ΠΎΠ΅ со стандартными ΠΏΠΎΠ»ΡƒΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄Π½ΠΈΠΊΠΎΠ²Ρ‹ΠΌΠΈ устройствами (Π½Π°ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Ρ€, с извСстными ΠΊΠΎΠΌΠΏΠ»Π΅ΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Ρ€Π½Ρ‹ΠΌΠΈ МОП-структурами). ΠŸΡ€ΠΈΡΠΎΠ΅Π΄ΠΈΠ½ΡΡ Π½ΠΎΠ²Ρ‹Π΅ схСмы Π½Π΅ Π² плоскости, Π° Π² пространствС (снизу ΠΈΠ»ΠΈ свСрху), ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΡƒΠΏΡ€Π°Π²Π»ΡΡ‚ΡŒ Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΎΠΉ молСкулярных ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Ρ‚Π΅Π»Π΅ΠΉ. ИспользованиС Ρ‚Π°ΠΊΠΎΠΉ Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΈΠΊΠΈ позволяСт ΡΠΎΠ·Π΄Π°Π²Π°Ρ‚ΡŒ ΡΠΌΠ΅ΡˆΠ°Π½Π½Ρ‹Π΅ ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π³Ρ€Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ схСмы (наносхСмы + КМОП-структуры) практичСски любого Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π°. Π Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Ρ‹ Π½Π°Π½ΠΎΠΎΠ±ΡŠΠ΅ΠΊΡ‚ΠΎΠ² ΠΈΠ»ΠΈ участков Π΅Π΄ΠΈΠ½ΠΎΠΉ схСмы Π½Π°ΡΡ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ ΠΌΠ°Π»Ρ‹, Ρ‡Ρ‚ΠΎ СдинствСнным Ρ„Π°ΠΊΡ‚ΠΎΡ€ΠΎΠΌ, ΠΎΠ³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ‡ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‰ΠΈΠΌ ΡƒΠΌΠ΅Π½ΡŒΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΎΠ² Π½ΠΎΠ²Ρ‹Ρ… устройств, ΠΎΡΡ‚Π°ΡŽΡ‚ΡΡ Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ†Ρ‹ возмоТностСй ΡΡƒΡ‰Π΅ΡΡ‚Π²ΡƒΡŽΡ‰Π΅ΠΉ литографичСской Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΈΠΊΠΈ. Π˜ΡΡ…ΠΎΠ΄Ρ ΠΈΠ· описанного ΠΏΠΎΠ΄Ρ…ΠΎΠ΄Π°, ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Π΄Π°ΠΆΠ΅ ΡΠΊΠ°Π·Π°Ρ‚ΡŒ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ сущСствуСт лишь абстрактный физичСский ΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π» ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Π³Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ элСктронных схСм, опрСдСляСмый Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€Π°ΠΌΠΈ элСмСнтарного устройства ΠΈΠ· Π΄Π²ΡƒΡ… мСталличСских Π½Π°Π½ΠΎΡ‚Ρ€ΡƒΠ±ΠΎΠΊ, связанных собствСнным элСктромСханичСским взаимодСйствиСм.